石墨负极电化学扫描循环过程的EIS、Raman光谱和XRD研究

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作   者：

庄全超;  许金梅;  田景华;  樊小勇;  董全峰;  孙世刚; 

作者机构：

厦门大学化学化工学院化学系固体表面物理化学国家重点实验室; 

关键词：

电化学阻抗谱;  X射线衍射;  石墨负极;  固体电解质相界面膜;  拉曼光谱; 

期刊名称：

高等学校化学学报

i s s n：

0251-0790

年卷期：

2008 年 05 期

页   码：

115-118

摘   要：

运用电化学阻抗谱(EIS)、Raman光谱和XRD研究了石墨负极在1 mol/L LiPF6-EC∶DEC∶DMC电解液中的电化学循环扫描过程.EIS研究结果表明,在电化学循环扫描4~10周范围内,SEI膜(固体电解质相界面膜)电阻随循环扫描周数增加近似线性增长,但石墨负极/电解液界面总阻抗由于电荷传递电阻的降低而减小.Raman光谱研究结果表明,在经历电化学循环扫描后,活性材料表层发生粉化和无定形化,石墨化程度降低;但XRD研究结果显示,石墨材料的本体结构没有发生变化,仍然保持着完整的石墨层状结构.