X-射线曝光区域调节方法、存储介质和X-射线系统
- 专利权人:
- 上海西门子医疗器械有限公司
- 发明人:
- 赫伟
- 申请号：
- CN201710358487.4
- 公开号：
- CN108937975A
- 申请日:
- 2017.05.19
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供一种X‑射线曝光区域调节方法、存储介质和X‑射线系统。根据一实施方式,X‑射线曝光区域调节方法包括:对待测对象的状态进行实时监控,并在待测对象的状态满足预设条件时获取所述待测对象的初始图像;确定所述初始图像中的感兴趣区域;以及基于所述感兴趣区域的信息设置所述X‑射线曝光区域。本发明能够实现根据待检对象自动调节X‑射线系统中曝光区域,不仅便于操作、提高检查效率,而且能够避免患者受到不必要的辐射。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
