SiO2在制备抗辐射药物或治疗电离辐射损伤药物中的用途
- 专利权人:
- 发明人:
- 冯珍兰,余意可,沈哲凡,方兰,杜继聪,程赢,蔡建明,何翔,许沁舒,李佳迅,刘聪,赵健鹏
- 申请号：
- CN202111309205.4
- 公开号：
- CN114159462B
- 申请日:
- 2021.11.06
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2023
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及生物医药领域，具体涉及SiO2在制备抗辐射药物或治疗电离辐射损伤药物中的用途。本发明首次发现并证实了SiO2在制备抗辐射药物或治疗电离辐射损伤药物中的新用途，且在缓解骨髓、脾及肠道的辐射损伤方面具有突出效果；同时初步探究了该用途的发生机制，即SiO2主要通过NOD2/NF‑κB通路发挥其辐射防护作用，为辐射防护提供了新的防治策略。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
