Efsol-containing composition

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专利权人:

株式会社佐藤園;萩原株式会社;SATOEN:KK;HAGIWARA KK

发明人:

福田 寿之,武田 厚司,FUKUDA TOSHIYUKI,TAKEDA KOJI

申请号：

JP2018169046

公开号：

JP2020040904A

申请日:

2018.09.10

申请国别(地区):

JP

年份:

2020

代理人:

摘要：

To prevent or improve a disorder of memory acquisition. A composition for preventing or ameliorating a memory disorder, comprising efsol. [Selection diagram] None【課題】記憶獲得の障害を予防又は改善すること。 【解決手段】エフソールを含有する記憶障害予防又は改善用組成物。【選択図】なし

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/