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Modified release composition of highly soluble drugs
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专利权人:
Navin Vaya
发明人:
Navin Vaya,Rajesh Singh Karan,Sunil Sadanand Nadkarni,Vinod Kumar Gupta
申请号:
US10630348
公开号:
US08216609B2
申请日:
2003.07.29
申请国别(地区):
US
年份:
2012
代理人:
摘要:
A novel modified release dosage form comprising of a high solubility active ingredient, which utilizes dual retard technique to effectively reduce the quantity of release controlling agents a process for preparing the dosage form.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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