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Method for producing difluoromethylene compound
专利权人:
佐藤製薬株式会社
发明人:
永井 啓太,尾▲崎▼ 寿光
申请号:
JP2019514652
公开号:
JPWO2018199284A1
申请日:
2018.04.27
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
The present invention provides a method of producing a difluoromethylene compound and an intermediate thereof useful in the pharmaceutical field.Specifically, equation (6):In Formula 1, l represents a halogen atom, a cyano group, a lower alkyl group, a halo lower alkyl group, a cycloalkyl group, a lower alkoxy group, a halo lower alkoxy group or a hydroxy low alkyl group; R1 is a lower alkyl group, a halogen atom, a halo lower alkyl group, and a cyclone Represents a rutile group, a cyano group or a hydroxy low alkyl group; W represents a nitrogen atom or a methine group.Compounds represented byIn formula R2, R2 represents a lower alkyl group, a halo lower alkyl group, a cycloalkyl group, a lower alkenyl group or an aryl group; R3 represents a chlorine atom, bromine atom or iodine atom. Problem to be solved: to provide a method of producing a difluoromethylene compound which includes the step of reacting the compound represented by the formula.本発明は、医薬分野で有用なジフルオロメチレン化合物及びその中間体の製造法を提供する。 具体的には、式(6):[式中、L1は、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、シクロアルキル基、低級アルコキシ基、ハロ低級アルコキシ基又はヒドロキシ低級アルキル基を表し;R1は、低級アルキル基、ハロゲン原子、ハロ低級アルキル基、シクロアルキル基、シアノ基又はヒドロキシ低級アルキル基を表し;Wは、窒素原子又はメチン基を表す。]で表される化合物と、式(7):[式中、R2は、低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、シクロアルキル基、低級アルケニル基又はアラルキル基を表し;R3は、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。]で表される化合物とを反応させる工程を含む、ジフルオロメチレン化合物の製造法を提供する。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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