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antimicrobial composition including a residue barrier film
专利权人:
HYPROTEK; INC.
发明人:
PATRICK O. TENNICAN
申请号:
BR112014012707
公开号:
BR112014012707A8
申请日:
2012.11.28
申请国别(地区):
BR
年份:
2017
代理人:
摘要:
Summary "antimicrobial composition including a residue barrier film" This descriptive report describes an example of antimicrobial compositions that may be used in combination with iv vent cleaning capsules or nasal decongestants. According to other implementations, the report describes that the antimicrobial composition may provide with an indication of coming into contact with a foaming or blistering contamination element on the surface being cleaned. According to another implementation, the report describes that the antimicrobial composition may leave a residual film or barrier to inhibit further contamination of a surface where cleaning has taken place.resumo "composição antimicrobial incluindo uma película de barreira a resíduos" este relatório descritivo descreve um exemplo de composições antimicrobiais que podem ser utilizadas em combinação com cápsulas de limpeza de orifício de escape iv ou com dispositivos descongestionantes nasais. de acordo com outras implementações, o relatório descreve que a composição antimicrobial pode proporcionar com uma indicação de vir a estar em contato com um elemento de contaminação pela formação de espuma ou de bolhas na superfície que está sendo limpa. de acordo com uma outra implementação, o relatório descreve que a composição antimicrobial pode deixar uma película ou barreira residual para a inibição de nova contaminação de uma superfície aonde tenha sido efetuada a limpeza.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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