A method for forming an absorbent pad comprising a first layer, a second layer and an absorbent material interposed between the first and the second layer and arranged according to a spreading pattern M1 having at least one channel which is free of absorbent material, comprises a step of feeding a first web (NW1), intended to form the first layer of the pad； a step of feeding a second web (NW2), intended to form the second layer of the pad； a step of spreading the absorbent material on the first web (NW1) according to the spreading pattern M1； a step of spreading an adhesive on the first web (NW1) according to a gluing pattern (M2)； a step of welding the first web and the second web (NW1, NW2) according to a welding pattern M3 comprising at least one welding zone at the channel on the pad.Un procédé de formation d'un tampon absorbant comprenant une première couche, une seconde couche et un matériau absorbant interposé entre la première et la seconde couche et agencés selon un motif d'étalement M1 ayant au moins un canal qui est exempt de matériau absorbant, comprend une étape d'alimentation d'une première toile (NW1), destinée à former la première couche du tampon； une étape d'alimentation d'une deuxième toile (NW2), destinée à former la seconde couche du tampon； une étape d'étalement du matériau absorbant sur la première toile (NW1) selon le motif d'étalement M1； une étape d'étalement d'un adhésif sur la deuxième toile (NW1) selon un motif de collage (M2)； une étape d'assemblage de la première toile et de la deuxième toile (NW1, NW2) selon un motif de soudure M3 comprenant au moins une zone d'assemblage au niveau du canal sur le tampon.
