SELF-ADHESIVE MATRIX SYSTEM COMPRISING A STYRENE BLOCK COPOLYMER

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专利权人:

发明人:

申请号：

HK11110639.3

公开号：

HK1156337B

申请日:

2011.10.07

申请国别(地区):

HK

年份:

2018

代理人:

摘要：

Disclosed is a self-adhesive matrix system comprising a styrene-ethylene/butylene-styrene (SEBS) copolymer in an oil/ethyl acetate mixture, a hydrogenated resin and a pharmaceutical or cosmetic active ingredient.La présente invention concerne un système de matrice autoadhésive comprenant un copolymère styrène-éthylène/butylène-styrène (SEBS) dans un mélange huile/acétate déthyle, une résine hydrogénée et un principe actif pharmaceutique ou cosmétique.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/