An apparatus and methods are provided for a tapered implant for treating osteochondral defects. The tapered implant comprises a top portion that includes a shape that approximates an osteochondral surface to be replaced. A bottom portion of the tapered implant is configured to be implanted into a hole drilled in bone. A cylindrical sidewall of the tapered implant has a diameter that decreases from a first diameter of the top portion to a second diameter of the bottom portion. The tapered implant comprises any monophasic synthetic material suitable for implantation into bone, including any of silicone, bioglass, peek, polyethylene, titanium, and cobalt chrome.L'invention concerne un appareil et des procédés pour un implant effilé pour le traitement de défauts ostéochondraux. L'implant effilé comprend une partie supérieure qui comprend une forme qui s'approche d'une surface ostéochondrale à remplacer. Une partie inférieure de l'implant conique est conçue pour être implantée dans un trou percé dans l'os. Une paroi latérale cylindrique de l'implant effilé a un diamètre qui diminue d'un premier diamètre de la partie supérieure à un second diamètre de la partie inférieure. L'implant conique comprend n'importe quel matériau synthétique monophasique approprié pour une implantation dans un os, comprenant l'un quelconque parmi la silicone, le bioverre, le PEEK, le polyéthylène, le titane et le chrome de cobalt.
