具有受保护羰基基团的光引发剂
- 专利权人:
- 3M创新有限公司
- 发明人:
- K·A·福尔普,周世宏,P·J·霍姆尼克,A·S·阿比尔雅曼,龚涛,J·D·奥克斯曼,W·S·马奥尼
- 申请号：
- CN201780063650.2
- 公开号：
- CN109843861A
- 申请日:
- 2017.09.10
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了由下式表示的受保护光引发剂:其中芳基1为芳族或杂芳族环;芳基2为芳族环;每个R1为烷基、芳基、供电子基团或吸电子基团,并且下标a为0至3;每个R2为烷基、芳基、供电子基团或吸电子基团,并且下标b为0至3;Prot为受保护羰基基团。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
