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抑制RNA干扰脱靶效应的特异性修饰
专利权人:
百奥迈科生物技术有限公司
发明人:
杜权,梁子才
申请号:
CN201110078975.2
公开号:
CN102719434A
申请日:
2011.03.31
申请国别(地区):
CN
年份:
2012
代理人:
摘要:
本发明提供了一种化学修饰的双链小干扰RNA(siRNA)分子及其制备和应用方法。通过在siRNA分子正义链从5’端起第14位点或/和第16位点引入化学修饰的核苷酸,从而降低修饰的siRNA分子正义链引起的脱靶效应,增强修饰的siRNA分子对靶基因表达沉默的特异性。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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