一种活动义齿上釉装置
- 专利权人:
- 武汉创齿缘医疗器械有限公司
- 发明人:
- 温才勇,巫建声,彭丹丹,黄建明
- 申请号：
- CN202221864673.8
- 公开号：
- CN218639947U
- 申请日:
- 2022.07.20
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2023
- 代理人:
- 摘要：
- 本实用新型公开了一种活动义齿上釉装置，包括支台；通过义齿承载板对义齿进行承载，在间歇传送带的带动下间歇等距的进入外壳的内部，间歇传送带每进行一次间歇运行，通过第一连接板底部的顶部喷头和横向隔板外侧的侧部弧形喷头同时对义齿的外侧和顶部进行喷釉，当喷涂结束后，间歇传送带再次进行间歇运动，将经过一次喷涂的义齿运输到第二连接板的下方，随后外壳内部的另一组电动推杆推动第二连接板向下移动，使第二连接板底部的纵向隔板位于义齿承载板的顶部，通过纵向隔板外侧的侧部直形喷头对义齿的另外两侧进行喷涂，进而配合侧部弧形喷头和顶部喷头对义齿进行全面喷涂，保证了上釉的均匀性。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
