An electrolyte composition containing magnesium and silicon in a plasma electrolytic oxidation process and a method for manufacturing dental implants coated by hydroxyapatite containing magnesium and silicon ions using the composition
CHOSUN UNIVERSITY;INDUSTRY-ACADEMIC COOPERATION FOUNDATION
发明人:
CHOE, HAN CHEOL,최한철,PARK, SEON YEONG,박선영,CHOE, HAN CHEOLKR,PARK, SEON YEONGKR
申请号：
KR1020170035313
公开号：
KR1018356230000B1
申请日:
2017.03.21
申请国别(地区):
KR
年份:
2018
代理人:
摘要：
The present invention relates to a method for manufacturing implants, which uses an electrolyte solution containing magnesium and silicon to form the surface of a porous oxidation film containing magnesium, silicon ions, calcium and phosphorus on the surface of the dental implants through a plasma electrolytic oxidation method, thereby improving bioactivity, wherein the method comprises the following steps: a titanium alloy preparation step； an input step； a plasma forming step； and a drying step.본 발명은 일반적으로 인체내 골에 삽입되어 사용되고 있는 금속재료인 티타늄계 합금 표면에 플라즈마 전해 산화법(Plasma Electrolytic Oxidation)을 이용하여 다공성의 산화 피막을 형성하는 것으로, 더욱 상세하게는 인체를 이루고 있는 많은 이온중에 세포부착과 골 형성으로부터 중요한 역할을 하는 마그네슘과 실리콘 이 함유된 전해질 용액을 사용하여 치과 임플란트 표면에 마그네슘 및 실리콘 이온과 칼슘 및 인이 포함된 다공성 산화 피막의 표면을 플라즈마 전해 산화법으로 형성하여 생체활성을 향상시키는 임플란트 제조방법이며, 그 과정은 치과용 티타늄합금을 순차적으로 연마, 미세연마 및 초음파 세척하는 티타늄합금 준비단계, 상기 준비단계에서 준비된 티타늄합금을 전기분해조 양극에 설치하고, 음극은 백금을 설치한 후 전해질 용액을 투입하는 투입단계, 일정한 전압과 전류밀도를 가하여 플라즈마를 생성시켜 티타늄합금에 산화 피막을 형성하는 플라즈마 형성단계 및 상기 플라즈마 형성단계에서 티타늄합금에 산화피막이 형성된 후 에탄올 및 증류수 세척 후 건조시키는 건조단계를 포함하는 플라즈마 전해 산화 공정에서 마그네슘 및 실리콘이 함유된 전해질 조성물 및 그 조성물을 이용하여 마그네슘 및 실리콘 이온을 함유하는 수산화아파타이트가 코팅된 치과용 임플란트 제조방법이다.상기 플라즈마 전해 산화 공정에서 마그네슘 및 실리콘이 함유된 전해질 조성물 및 그 조성물을 이용하여 마그네슘 및 실리콘 이온을 함유하는 수산화아파타이트가 코팅된 치과용 임플란트 제조방법에 의한 효과는 티타늄계 생체합금에 플라즈마 전해 산화공정을 이용하여 치과용 임플란트 표면 처리함으로써 제조공정 과정이 간편하고, 임플란트 제조 시간 및 치료 기간을 저감시키는 효과가 있고, 플라즈마 전해 산화법으로 마그네슘과 실리콘 이온을 복합적인 치환을 통해 생체적합성을 지닌 다공성 산화막을 생성하였으며, 종래 금속 산호막보다 두껍고 치밀한 산화막을 제조하며, 마그네슘 및 실리콘 이온의 생체활성물질을 포함하여 생체적합성을 증가시켜 치과용 임플란트의 초기 고정력을 높인다.
