癒着防止用組成物

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专利权人:

国立大学法人;東京大学

发明人:

伊藤 大知,國土 典宏,西山 徹,清水 篤志,清水 賢,伊佐次 三津子

申请号：

JP2016569507

公开号：

JPWO2016114355A1

申请日:

2016.01.14

申请国别(地区):

JP

年份:

2017

代理人:

摘要：

The present invention provides a composition for preventing adhesion using a combination of (a) a monovalent metal salt of low endotoxin alginic acid, (b) carboxymethyl cellulose or a pharmaceutically acceptable salt thereof, and (c) a cell. Thereby, a composition for preventing adhesion with high adhesion preventing effect is provided.本発明は、(a)低エンドトキシンアルギン酸の1価金属塩、(b)カルボキシメチルセルロースまたはその薬学的に許容される塩、および(c)細胞を組合せて用いる癒着防止用組成物を提供する。これにより、癒着防止効果の高い癒着防止用組成物が提供される。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/