A system and corresponding methods for purifying and removing contaminants from gaseous fluids includes a housing including an inlet, an outlet, and an elongated UV chamber disposed within the housing. The UV radiation source is disposed longitudinally within the UV chamber. At least one baffle structure is disposed at an upstream location within the housing to restrict flow as well as to generate a turbulent flow of the gaseous fluid within the UV chamber. In addition, a fan is disposed at a selected location within the housing to facilitate a flow of the gaseous fluid through the housing at a selected flow rate. The dimensions of the UV chamber and UV source and the configuration of the baffle structure are selected to increase the exposure time and mixing of fluid flowing through the UV chamber as well as increase the proximity of the flowing fluid to the UV sourceLinvention concerne un système et des procédés associés de purification et délimination des contaminants des fluides gazeux. Ce système comprend un logement doté dune entrée, dune sortie ainsi que dune enceinte à ultraviolet allongée placée dans le logement. La source de rayonnement ultraviolet est placée longitudinalement dans lenceinte à ultraviolet. Au moins une structure tampon placée en amont dans le logement permet de limiter lécoulement et de générer lécoulement turbulent du fluide gazeux dans lenceinte à ultraviolet. Un ventilateur placé à un endroit précis dans le logement facilite lécoulement du fluide gazeux dans le logement selon un débit déterminé. Les dimensions de lenceinte à ultraviolet et de la source de rayonnement ultraviolet ainsi que la configuration de la structure tampon sont choisies pour, dune part, augmenter le temps dexposition et de mélange du fluide qui sécoule dans lenceinte à ultraviolet, et dautre part, augmenter la proximité du fluide découlement de la source de rayonnement ultraviolet.
