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SGLT2の阻害物質として有用な化合物の調製プロセス
专利权人:
ヤンセン ファーマシューティカ エヌ.ベー.
发明人:
ファリーナ,ヴィトリオ,ルメール,セバスチャン,フランシス エマニュエル,ホウピス,イオアンニス,エヌ.
申请号:
JP2012534342
公开号:
JP2013508284A
申请日:
2010.10.14
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
Salts of compounds of formula (I), or a pharmaceutically acceptable, or a process for preparing novel solvate thereof, comprises the formula (VII) (VIII) and (IX), the present invention, wherein, is an oxygen protecting group selected, wherein each Z is independently a compound of formula is zinc species M 2 in (VII), a compound LG 2 is a leaving group of the formula (VIII), an ether to yield a compound of formula deprotecting the step of causing the compound of formula is reacted in a mixture of hydrocarbon solvents and solvent, and the corresponding (IX), a compound of formula (IX), and the corresponding (I) I is an object of the invention process and a step. [Formula 1]本発明は、式(I)の化合物、又は薬剤として許容される塩、若しくはそれらの溶媒和物の新規の調製プロセスであって、式(VII)(VIII)(IX)を含み、式中、M2が亜鉛種である式(VII)の化合物を、式中、各Zが独立して選択される酸素保護基であり、LG2が脱離基である式(VIII)の化合物と、エーテル溶媒及び炭化水素溶媒の混合物中で反応させて、対応する式(IX)の化合物を生じさせる工程と、式(IX)の化合物を脱保護して、対応する式(I)の化合物を生じさせる工程と、を含むプロセスを目的とする。【化1】
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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