流体投与装置の表面を処理する処理方法

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专利权人:

アプター フランス エスアーエス

发明人:

ブルーナ、パスカル

申请号：

JP2012545404

公开号：

JP2013515534A

申请日:

2010.12.22

申请国别(地区):

JP

年份:

2013

代理人:

摘要：

And a process and a processing method for processing the surface of the fluid delivery device, using a chemical grafting, to form a thin film on the support surface one or more parts of one or more contact with the fluid out of the fluid delivery device how to process the thin film that includes one or both of the bacteriostatic properties and fungicidal properties. None [Selection Figure]流体投与装置の表面を処理する処理方法であって、化学的グラフトを用いて、前記流体投与装置のうち流体と接触する1以上の部分の1以上の支持体表面に薄膜を形成する処理を含み、前記薄膜は殺菌特性及び静菌特性の両方又は一方を備える、という処理方法。【選択図】なし

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/