一种高陡边坡植被恢复结构
- 专利权人:
- 四川大学
- 发明人:
- 李绍才,孙海龙,李付斌
- 申请号：
- CN201510228664.8
- 公开号：
- CN104885827A
- 申请日:
- 2015.05.07
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2015
- 代理人:
- 胡琳梅
- 摘要：
- 本发明提供一种高陡边坡植被恢复结构，其生长基质覆盖在高陡边坡本体的表层，加筋网位于生长基质中，拦水凹槽沿水平方向分布于生长基质上，种子萌发基质纵向条状镶嵌于生长基质中，种子萌发孔按种子萌发基质位置分布在微孔薄膜上；微孔薄膜贴合覆盖在生长基质和种子萌发基质的表面，微孔薄膜在该拦水凹槽处紧贴于拦水凹槽的底部，该恢复结构坡面基质稳定，有效防止坡面的土壤或碎石滑落，自重较轻，利于绿化基材固定，提高种子萌发率，增大植被的盖度，拦水凹槽可使天然降雨或人工施水的水分在微孔薄膜上停留时间延长，进一步使水分充分渗入生长基质中，避免在高陡边坡条件下的径流损失和径流对生长基质或种子萌发基质的侵蚀。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
