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一种测量分子层折射率的方法
专利权人:
上海交通大学
发明人:
叶坚,林俐,刘中辉,古宏晨
申请号:
CN201610755915.2
公开号:
CN106338493B
申请日:
2016.08.29
申请国别(地区):
中国
年份:
2018
代理人:
郑立
摘要:
本发明提供了一种测量分子层折射率的方法,所述方法包括如下步骤:1)制备金属纳米核,在所述金属纳米核表面吸附待测分子,形成所述待测分子的分子层,同时测量金属纳米核在吸附待测分子前后的吸收光谱偏移;2)在分子层外表面包覆金属壳层,得到内嵌待测分子的核壳结构金属纳米颗粒;通过透射电子显微镜测量核壳间隙尺寸,得到分子层的厚度;3)根据测得的分子层厚度数据,建立吸收光谱与分子层折射率的关系模型;4)假定多个分子层折射率,通过所述的关系模型计算得到多个模拟光谱偏移量,最终得到待测分子层的有效折射率。本发明提供的方法能有效测定纳米颗粒表面分子层的折射率。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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