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一种转印方法和重复转印方法
- 专利权人:
- 京东方科技集团股份有限公司
- 发明人:
- 魏伟
- 申请号：
- CN201610203465.6
- 公开号：
- CN105856888B
- 申请日:
- 2016.04.01
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 汪源`陈源
- 摘要：
- 本发明公开了一种转印方法和重复转印方法，所述转印方法包括：对转印模的转印面进行表面改性处理以降低所述转印面的表面自由能，在所述转印面上形成液态材料层，对所述液态材料层进行固化处理以形成固态材料层，将所述固态材料层从所述转印模脱模。本发明提供的技术方案对转印模进行表面改性处理，从而降低转印面的表面自由能，由于表面改性处理之前的转印面的原子间作用力大于表面改性处理之后的转印面的分子间作用力，因此针对所有物质进行转印都能够获得较好的转印效果。另外，本发明提供的技术方案在低温环境中对转印模进行表面改性处理，避免高温环境导致模具表面发生形变，从而提高了转印精度和生产效率，简化了工艺流程，降低了生产成本。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
