您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

The composition of alpha
专利权人:
GLAXOSMITHKLINE BIOLOGICALS S.A.
发明人:
CASTADO Cindy
申请号:
CY171100158
公开号:
CY1118599T1
申请日:
2017.02.03
申请国别(地区):
CY
年份:
2017
代理人:
摘要:
Η παρούσα εφεύρεση αφορά πρωτεΐνες σύντηξης που περιλαμβάνουν θραύσματα από την τοξίνη Α και/ή την τοξίνη Β του Clostridium difficile, συγκεκριμένα η εφεύρεση αφορά πρωτεΐνες που περιλαμβάνουν ένα πρώτο θραύσμα και ένα δεύτερο θραύσμα, όπου (v) το πρώτο θραύσμα είναι ένα θραύσμα επαναλαμβανόμενης περιοχής της τοξίνης A• (vi) το δεύτερο θραύσμα είναι ένα θραύσμα επαναλαμβανόμενης περιοχής της τοξίνης B• (vii) το πρώτο θραύσμα έχει ένα πρώτο εγγύς άκρο• (viii) το δεύτερο θραύσμα έχει ένα δεύτερο εγγύς άκρο• και όπου το πρώτο θραύσμα και το δεύτερο θραύσμα είναι γειτονικά μεταξύ τους και όπου το πολυπεπτίδιο αποσπά αντισώματα που εξουδετερώνουν την τοξίνη Α ή την τοξίνη Β ή και τις δύο. Η εφεύρεση περαιτέρω αφορά συνθέσεις που περιλαμβάνουν θραύσματα ή παραλλάγματα των SEQ ID ΝΟ:10, SEQ ID ΝΟ:11, SEQ ID ΝΟ:12, SEQ ID ΝΟ:13, SEQ ID ΝΟ:14, SEQ ID ΝΟ:15, SEQ ID ΝΟ:16, SEQ ID ΝΟ:17, SEQ ID ΝΟ:18, SEQ ID ΝΟ:19, SEQ ID ΝΟ:28, SEQ ID ΝΟ:29, SEQ ID ΝΟ:30, SEQ ID ΝΟ:31, SEQ ID ΝΟ:32, SEQ ID ΝΟ:33 ή SEQ ID ΝΟ:34 ή SEQ ID ΝΟ:35.The present invention relates to a fusion protein toxin A and /or Clostridium difficile toxin B comprising fragments, in particular to PI p__e_. The S fragment consisted of first and first fragments of second.(5) The second fragment of a toxin (VI) is a fragment__repeat region in which the first fragment is a repeat region. (7) and B. The first fragment has the first near (8) the second fragment has the second near uuuuuuuuuuuuuuu Tone, and scattered polypeptide antibodiesToxins neutralize toxins A or B or two. The invention also relates to a composition comprising a fragment of SEQ ID number or a SEQ ID number: 10, 11, 12, SEQ SEQ ID number: ID number: SEQ ID number: 13, 14, 15, SEQ SEQ ID number: ID number: SEQ ID number: 16, 17, 18 SEQ ID: SEQ ID, ID: 19, SEQ SEQ ID: 28, 29, 30, SEQ ID ID: SEQ ID: serial SEQ ID: 31, 32, 33 SEQ ID or SEQ ID: SEQ ID: 34 or 35.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充