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化粧料用基剤及びこれを配合してなる化粧料
专利权人:
NOF CORP
发明人:
TEZUKA YOJI,手塚洋二,IIZUKA MUNEAKI,飯塚宗明
申请号:
JP2011075270
公开号:
JP2012207001A
申请日:
2011.03.30
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a base for a cosmetic in which the sense of use such as smoothness and fitness to the skin upon application is satisfactory, and which has satisfactory emulsion stability, and a cosmetic containing the same.SOLUTION: The base for a cosmetic is composed of a polyalkylene glycol derivative represented by formula (I), and the cosmetic includes the same: (I) Z-{O-(AO)a-(EO)k-(AO)b-R}m (wherein, Z denotes a residue obtained by removing hydroxyl groups from water-soluble polyhydric alcohol having 3 to 6 pieces of the hydroxy groups m denotes 3 to 6 EO denotes an oxyethylene group AO denotes a 4 to 8C oxyalkylen group, and EO and AO are coupled in a block shape a and b denote the average addition mole number of AO k denotes the average addition mole number of EO a denotes 0 to 50 b denotes 1 to 50 a+b denotes 1 to 50 k denotes 1 to 50 (a+b+k)×m denotes 100 to 300, and the mass ratio of EO is 10 to 75 pts.mass to 100 pts.mass of the total content of EO and AO and R denotes a hydrogen atom or a 12 to 24C fatty acid residue).COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】塗布時の滑らかさ、肌へのなじみなど使用感が良好で、しかも乳化安定性が良好な化粧料用基剤、及びこれを含有する化粧料を提供する。【解決手段】下記式(I)で表されるポリアルキレングリコール誘導体からなる化粧料用基剤及びこれを含有する化粧料。Z-{O-(AO)a-(EO)k-(AO)b-R}m (I)(式中、Zは、水酸基を3~6個有する水溶性多価アルコールから水酸基を除いた残基、mは3~6、EOはオキシエチレン基、AOは炭素数4~8のオキシアルキレン基を示し、EOとAOはブロック状に結合している。a及びbはAOの平均付加モル数、kはEOの平均付加モル数で、aは0~50、bは1~50、a+bは1~50、kは1~50、(a+b+k)×mは100~300。EOとAOの合計量100質量部に対し、EOの質量割合は10~75質量部である。Rは、水素原子又は炭素数12~24の脂肪酸残基。)【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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