炭酸水のシリカ濃度の分析方法
- 专利权人:
- 栗田工業株式会社
- 发明人:
- 床嶋 裕人
- 申请号：
- JP20150193676
- 公开号：
- JP2017067616(A)
- 申请日:
- 2015.09.30
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】 電子材料のウェット洗浄に好適な炭酸水中のシリカ濃度を低濃度域まで精度よく分析することの可能な炭酸水のシリカ濃度の分析方法を提供する。【解決手段】 ポンプ５を起動して炭酸水Ｗをタンク４から膜式脱気装置１に供給する。これと同時に窒素ガス供給機構２から窒素ガスを供給するとともにガス排出装置３からガスを排出する。これにより炭酸水Ｗ中の気体成分が脱気膜１Ａを介して脱気されて脱気処理が行われ、処理水Ｗ１が得られる。このようにして脱気処理を施した処理水Ｗ１は、炭酸水Ｗとシリカ濃度は同じであるので、この処理水Ｗ１中のシリカ濃度をＩＣＰ−ＭＳで分析する。【選択図】 図１
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