持久的可光聚合的交联防污涂层
- 专利权人:
- 艾奥瓦大学研究基金会
- 发明人:
- E.L.郑,C.A.盖蒙,M.R.汉森,B.利
- 申请号：
- CN201780049849.X
- 公开号：
- CN109562202A
- 申请日:
- 2017.24.06
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 公开了通过共价键合接枝至基底的表面的持久的防污交联两性离子涂层。当暴露于光源时,两性离子单体在基底的表面处与交联剂和活化自由基反应,同时形成交联两性离子涂层并且将其锚定至基底的表面。光掩模技术可用于使两性离子涂层微图案化。两性离子涂层可应用于各种基底,包括医疗装置和系统。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
