A method of depositing a relatively thin film of bioinert material onto a surgical implant substrate, such as a dental implant. Chemical vapor deposition (CVD) may be used to deposit a layer of tantalum and/or other biocompatible materials onto a solid substrate comprised of an implantable titanium alloy, forming a biofilm-resistant textured surface on the substrate while preserving the material properties and characteristics of the substrate, such as fatigue strength.La présente invention concerne un procédé de dépôt d'une couche relativement mince de matériau biologiquement inerte sur un substrat d'implant chirurgical, tel qu'un implant dentaire. Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) peut être utilisé pour déposer une couche de tantale et/ou d'autres matériaux biocompatibles sur un substrat solide constitué d'un alliage de titane implantable, former une surface texturée résistante au biofilm sur le substrat tout en conservant les propriétés et caractéristiques de matériau du substrat, telles que la résistance à la fatigue.
