包含均携带产生氢键的接合基团的聚硅氧烷和聚合物的美容组合物以及美容处理方法
- 专利权人:
- 莱雅公司
- 发明人:
- S.肖多罗夫斯基-基梅斯,M.维西克,J.瓦茨奎茨
- 申请号：
- CN201180036283.X
- 公开号：
- CN103491941A
- 申请日:
- 2011.05.13
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2014
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及一种美容组合物，其包含：a)至少一种携带接合基团的聚硅氧烷，其对应于下式(IIa)和(IIb)之一：其中：-R基团代表C1-C20烃基基团；-Q1、Q2和Q3基团代表如上文所定义的R基团；或能够形成至少3个H键的接合基团；应理解所述Q1至Q3基团中至少一个并非式(IIa)中的R；-Q4二价基团代表能够形成至少3个H键的接合基团；b)可以通过官能化的聚烯烃聚合物与官能化的接合基团的反应获得的聚烯烃基超分子聚合物，所述接合基团能够形成至少3个H(氢)键。本发明还涉及使用所述组合物的美容处理方法。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
