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TOPICAL APPLICATOR COMPOSITION AND PROCESS FOR REMOVAL OF RADIONUCLIDES FROM RADIOLOGICALLY CONTAMINATED DERMAL SURFACES
专利权人:
BATTELLE MEMORIAL INSTITUTE
发明人:
LEVITSKAIA, Tatiana, G.,THRALL, Karla, D.,PETERSON, James, M.,FRYXELL, Glen, E.,TIMCHALK, Charles, A.,TARASEVICH, Barbara, J.
申请号:
USUS2011/042771
公开号:
WO2012/030429A1
申请日:
2011.07.01
申请国别(地区):
WO
年份:
2012
代理人:
摘要:
A topical applicator composition and process are described that decorporate radionuclides from radiologicaily-contaminated dermal surfaces and that further promote healing. The topical applicator includes a decorporation agent mixed with a plasticizing agent that forms a covering when applied to the dermal surface that decorporates radionuclides and minimizes their systemic migration. The topical applicator formulations can be delivered in conjunction with bandages and other application dressings.La présente invention se rapporte à une composition dapplicateur topique et à un procédé permettant déliminer les radionucléides présents sur des surfaces dermiques radiologiquement contaminées et qui favorisent en outre la guérison. Lapplicateur topique comprend un décorporant mélangé à un agent plastifiant qui forme un revêtement qui, lorsquil est appliqué sur la surface dermique, élimine les radionucléides et réduit au minimum leur migration systémique. Les formulations de lapplicateur topique peuvent être administrées conjointement avec des bandages et dautres pansements dapplication.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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