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放射线测量装置的校正方法和粒子线治疗装置
专利权人:
株式会社日立制作所
发明人:
高柳泰介,西内秀晶,田所昌宏,藤井佑介,荣武二,照沼利之
申请号:
CN201310055087.8
公开号:
CN103293549B
申请日:
2013.02.20
申请国别(地区):
CN
年份:
2015
代理人:
摘要:
提供一种放射线测量装置的校正方法和粒子线治疗装置。在层叠型的放射线测量装置中,不使用水仿真模型测量装置,就能够短时间并且容易地校正每个传感器的输出的偏差。放射线测量装置的传感器部在粒子线的射线束方向上层叠多个传感器。虚拟吸收体具有与多个传感器的平均水等价厚度相等的水等价厚度,并且在相对于放射线的前进方向上设置在传感器部的上游侧。信号处理装置使用向放射线测量装置照射放射线而测量在各传感器中产生的电信号的第一测量所得到的测量结果、使传感器部向放射线的前进方向移动并且设置虚拟吸收体而在与第一测量相同的条件下照射放射线来测量在各传感器中产生的电信号的第二测量所得到的测量结果,计算各传感器的校正系数。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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