Disclosed is a method for topical protection against atmospheric pollutant molecules and ultraviolet (UV) radiation, comprising the steps of: a) producing a polymer matrix which is both repellent and anti-adhesive to atmospheric pollutant molecules, by means of a first biocompatible polymer (PB1)； b) under the effect of the UV radiation, photocatalytically degrading the pollutant molecules having penetrated the polymer matrix by means of first semiconductor colloids (Col-1) onto which a second biocompatible polymer (PB2) has been grafted, which results in the formation of free radicals； c) neutralizing said free radicals by means of at least 2 antioxidants, which are: - a first antioxidant in the form of second semiconductor colloids (Col-2) onto which the first antioxidant (AntiOx-1) has been covalently grafted, said second grafted colloids (Col-2) auto-regenerating under the effect of the UV radiation, - and a second antioxidant agent (AntiOx-2) that is not present in the form of colloids grafted with an antioxidant； and d) stabilizing the polymer matrix by means of the second antioxidant agent (AntiOx-2).Procédé de protection topique, vis-à-vis des molécules polluantes atmosphériques et du rayonnement ultraviolet (UV), comprenant les étapes de : a) former une matrice polymérique répulsive et antiadhésive vis-à-vis des molécules polluantes atmosphériques, au moyen d'un premier polymère biocompatible (PB1)； b) dégrader par photocatalyse sous l'effet du rayonnement UV les molécules polluantes ayant pénétré dans la matrice polymérique au moyen de premiers colloïdes semi- conducteurs greffés (Col-1) avec un second polymère biocompatible (PB2), entrainant de fait, la formation de radicaux libres； c) neutraliser lesdits radicaux libres au moyen d'au moins 2 antioxydants respectivement : - un premier antioxydant se présentant sous la forme de seconds colloïdes semi-conducteurs (Col-2) greffés de manière covalente avec ledit premier antioxydant (AntiOx-1)； les seconds col
