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SYSTÈME DE MESURE ET PROCÉDÉ POUR MESURER LA SITUATION IMPLANT-IMPLANT
专利权人:
SIRONA DENTAL SYSTEMS GMBH
发明人:
PFEIFFER, Joachim,THIEL, Frank
申请号:
EPEP2017/068541
公开号:
WO2018/015562A1
申请日:
2017.07.21
申请国别(地区):
EP
年份:
2018
代理人:
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Vermessungssystem (1) zur Vermessung einer Implantat-Implantat-Situation (5) für eine Planung eines implantatgetragenen Zahnersatzteils (33) gestützt auf mindestens zwei Implantate (3, 4, 6, 7) umfassend eine Scanschablone (2) und die mindestens zwei gesetzten Implantate (3, 4, 6, 7). Die Scanschablone (2) weist dabei Aussparungen (11, 12, 13,14) für die einzelnen Implantate (3, 4, 6, 7) auf, wobei an Oberflächenbereichen (24) um die Aussparungen (11, 12, 13,14) erste Markierungen (25) angeordnet sind.The invention relates to a measuring system (1) for measuring an implant-implant situation (5) for planning an implant-supported tooth replacement part (33) supported on at least two implants (3, 4, 6, 7), comprising a scanning template (2) and the at least two set implants (3, 4, 6, 7). The scanning template (2) has cut-outs (11, 12, 13, 14) for the individual implants (3, 4, 6, 7), wherein first markings (25) are arranged on surface regions (24) around the cut-outs (11, 12, 13, 14).L'invention concerne un système de mesure (1) destiné à mesurer une situation implant-implant (5) pour la conception d'une prothèse dentaire (33) supportée par des implants et soutenue sur au moins deux implants (3, 4, 6, 7) comprenant un gabarit de scannage (2) et les deux implants (3, 4, 6, 7) ou plus mis en place. Le gabarit de scannage (2) présente des évidements (11, 12, 13, 14) pour les divers implants (3, 4, 6, 7), des premiers repères (25) étant agencés autour des évidements (11, 12, 13, 14) sur les zones superficielles (24).
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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