有机聚硅氧烷及其制造方法、含有机聚硅氧烷的化妆材料
- 专利权人:
- 信越化学工业株式会社
- 发明人:
- 森谷浩幸
- 申请号：
- CN201310094899.3
- 公开号：
- CN103319720A
- 申请日:
- 2013.03.22
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供一种由下述平均化学式(1)所表示的有机聚硅氧烷。由此，本发明提供一种有机聚硅氧烷，其可以形成乳化稳定性及经时稳定性优异且化妆持续性良好的化妆材料，并且提供一种对粉状体的分散特性优异的有机聚硅氧烷。在通式(1)中，R1分别独立为碳数1～12个的1价烃基，R2为氢原子、碳数1～15的1价烃基、及碳数1～6的1价酰基中的任一个，n为0～1000的整数，m为2或3，X为碳数2～15的2价烃基，m为2时，Y为C-CH2-CH3，m为3时，Y为碳原子，s为0～100的整数，t为0～50的整数，z为0～50的整数。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
