带光催化剂的基材及其制造方法以及光催化装置
- 专利权人:
- 株式会社东芝
- 发明人:
- 内藤胜之,信田直美,千草尚,大川猛,荻原孝德,横田昌广,太田英男,猪又宏贵
- 申请号：
- CN201811532251.9
- 公开号：
- CN109954488A
- 申请日:
- 2018.14.12
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明的实施方式涉及带光催化剂的基材及其制造方法以及光催化装置。本发明可得到能简便地制作且难以剥离的带光催化剂的基材。实施方式的带光催化剂的基材包含:基材;基底层,所述基底层设置在基材上,在pH6的水中具有正的Zeta电位;和光催化剂层,所述光催化剂层设置在基底层上,含有具有负的Zeta电位的光催化剂材料。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
