水稻大垄双行通透性密植栽培方法
- 专利权人:
- 宫力臣
- 发明人:
- 宫力臣
- 申请号：
- CN201610943523.9
- 公开号：
- CN106538317A
- 申请日:
- 2016.11.02
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 刘峰
- 摘要：
- 本发明公开了一种水稻大垄双行通透性密植栽培方法，它由如下步骤构成：A、育秧，选用良种、种子处理、秧床整理、播种、秧田管理；B、插秧，插秧方式：大垄垄宽45～60厘米，小垄垄宽为30厘米左右，每隔20米，留1米的通风通道；C、田间管理，加强水、肥管理、加强病虫防治，促早熟；D、适时收获。本方法能够充分利用水稻边行优势，达到最大程度的通风透光效果。合理密植，株数增加20％～45％，进而增产增收，每亩平均增产167公斤。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
