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Silicon-containing underlayers
专利权人:
Rohm and Haas Electronic Materials LLC
发明人:
Cui Li,Cutler Charlotte A.,Coley Suzanne M.,Ongayi Owendi,Sullivan Christopher P.,LaBeaume Paul J.,Yamada Shintaro,Li Mingqi,Cameron James F.
申请号:
US201615254929
公开号:
US10007184(B2)
申请日:
2016.09.01
申请国别(地区):
美国
年份:
2018
代理人:
Cairns S. Matthew
摘要:
Wet-strippable underlayer compositions comprising one or more silicon-containing polymers comprising a backbone comprising Si—O linkages, one or more organic blend polymers, and a cure catalyst are provided. These compositions are useful in the manufacture of various electronic devices.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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