提高化妆料的保存稳定性的方法
- 专利权人:
- 株式会社ADEKA
- 发明人:
- 井上贵裕,立柳聪美,铃木裕之
- 申请号：
- CN201880009987.X
- 公开号：
- CN110290776A
- 申请日:
- 2018.16.01
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明的目的在于,提供一种长期使化妆料稳定化的方法。为了达成上述目的,本发明提供一种提高化妆料的保存稳定性的方法,其包括:配合下述通式(1)所示的化合物的步骤。(式(1)中,R1表示通式(2)所示的基团或碳原子数2或3的烃基所示的基团。)(式(2)中,R2表示碳原子数1~3的亚烷基,n表示数字0或1)。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
