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Surface treatment method by using the NH3 plasma treatment to modify the sensing thin-film
专利权人:
Chao-Sung Lai;Jau-Song Yu;Yu-Sun Chang;Po-Lung Yang;Tseng-Fu Lu;Yi-Ting Lin;Wen-Yu Chuang;Ting-Chun Yu;I-Shun Wang;Jyh-Ping Chen;Chou Chien
发明人:
Chao-Sung Lai,Jau-Song Yu,Yu-Sun Chang,Po-Lung Yang,Tseng-Fu Lu,Yi-Ting Lin,Wen-Yu Chuang,Ting-Chun Yu,I-Shun Wang,Jyh-Ping Chen,Chou Chien
申请号：
US13466291
公开号：
US08741679B2
申请日:
2012.05.08
申请国别(地区):
US
年份:
2014
代理人:
摘要：
The NH3 plasma treatment by remote plasma is firstly proposed to replace the covalent bonding process during surface modification procedure that for amine bond generation.
来源网站：
中国工程科技知识中心
来源网址：
http://www.ckcest.cn/home/
