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等离子体射流装置及杀菌方法
- 专利权人:
- 桂林电子科技大学
- 发明人:
- 李华,朱鸿成,杨象添,张雨晗,李明磊,贤跃飞
- 申请号：
- CN202110102597.0
- 公开号：
- CN112915230A
- 申请日:
- 2021.01.26
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2021
- 代理人:
- 摘要：
- 本申请提供了一种等离子体射流装置及杀菌方法，该射流装置包括：支架、第一驱动组件和安装座，所述支架包括相对设置的第一侧和第二侧，所述第一侧用于放置待灭菌物体，所述第一驱动组件设置于所述第二侧，并驱动所述安装座旋转，所述安装座的旋转平面朝向所述待灭菌物体；所述安装座上设有第二驱动组件和喷射机构，所述第二驱动组件驱动所述喷射机构旋转，且在旋转过程中所述喷射机构的喷射端均朝向所述待灭菌物体，所述喷射机构的旋转平面与所述安装座的旋转平面相交。该射流装置无需设置多个喷射机构，利用可调节角度的单个喷射机构对待灭菌物体进行灭菌，灭菌面积大，均匀覆盖待灭菌区域，无需对待灭菌物体进行反复灭菌，降低了生产成本。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
