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具有不同表面修饰密度的mPEG-DA-MnO纳米造影剂及其制备方法和用途
专利权人:
华东师范大学
发明人:
余家会,许珂,李斌,刘士远,徐琰
申请号:
CN201310487805.9
公开号:
CN104056284A
申请日:
2013.10.17
申请国别(地区):
CN
年份:
2014
代理人:
摘要:
本发明公开了一种具有不同表面修饰密度的mPEG-DA-MnO纳米造影剂及其制备方法和用途。本发明具有不同表面修饰密度的mPEG-DA-MnO纳米造影剂,其粒径为80-200nm,以MnO纳米粒子为核心,以mPEG-DA为表面修饰物,表面修饰物密度为6.51-17.2mmol·m-2。本发明造影剂的体系储存稳定、粒径分布范围窄、低毒性、弛豫率高、具有一系列不同的表面修饰物密度,且表面修饰物密度越小,弛豫率r1越高,造影增强效果越好。本发明可广泛用于MRI成像技术应用领域。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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