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Method for optimized adjustment of the light output in the object plane in reflected-light microscopes
专利权人:
Möller-Wedel GmbH & Co. KG
发明人:
Stefan, Dr. Oelkers,Peter Schalt
申请号:
DE102005011121
公开号:
DE102005011121B4
申请日:
2005.03.10
申请国别(地区):
DE
年份:
2016
代理人:
摘要:
Verfahren zum optimierten Einstellen der Lichtleistung in der Objektebene bei Auflichtmikroskopen durch automatische Begrenzung der Lichtintensität der ausgeleuchteten Fläche unter Berücksichtigung der vorliegenden Mikroskop-Geräteparameter, wobei hierfür eine Überprüfung erfolgt, ob oder inwieweit eine thermische Gefährdung oder Schädigung der beleuchteten Flächenabschnitte relevant ist, um beim Erreichen eines Schwellwerts die Lichtleistung der Lichtquelle zu regulieren.Method for optimized adjustment of the light output in the object plane in incident light microscopes by automatically limiting the light intensity of the illuminated surface taking into account the present microscope device parameters, for which a check is made whether or to what extent a thermal hazard or damage to the illuminated surface sections is relevant to achieve a threshold to regulate the light output of the light source.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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