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THE METHOD OF SURFACE REFORMING USING ELECTROLYTIC POLISHING AT THE TREATED SURFACE OF TITANIUM IMPLANT.
专利权人:
B&MEDI CO.; LTD.
发明人:
KWON, TAE SU,권태수,JEONG, HEE SEOK,정희석,LEE, DEUK YONG,이득용,KWON, TAE SUKR,JEONG, HEE SEOKKR,LEE, DEUK YONGKR
申请号:
KR1020140048927
公开号:
KR1015443570000B1
申请日:
2014.04.23
申请国别(地区):
KR
年份:
2015
代理人:
摘要:
Disclosed is a method for modifying a surface by using electrolytic polishing of a surface-treated titanium implant. The method for modifying a surface by using electrolytic polishing of a surface-treated titanium implant comprises the steps of: removing contaminants from a surface of a surface-treated titanium implant to activate the surface; removing an oxide layer from the surface of the previously surface-treated titanium implant by using electrolytic polishing; and neutralizing remaining acids from the surface treated by electrolytic polishing and removing contaminants. Accordingly, the oxide layer generated due to the previous surface treatment and contaminants remaining on the surface of the implant are removed to not only form an oxide layer having a stable binding force and but also neutralize and remove acidic components remaining on the exposed surface of the implant, thereby enabling the surface treatment which can minimize inflammation due to leakage of contaminants in implant surgery to increase the success rate of surgery.표면처리된 티타늄 임플란트의 전해연마를 이용한 표면개질 방법이 개시된다. 본 표면처리된 티타늄 임플란트의 전해연마를 이용한 표면개질 방법은, 표면처리 된 티타늄 임플란트의 표면 오염물을 제거하여 표면을 활성화 처리하는 단계; 상기표면을 전해연마를 사용하여 기 표면처리 된 티타늄 임플란트의 표면 산화막을 제거하는 단계; 및 전해연마 처리된 표면의 잔류산을 중화하고 오염물을 제거하는 단계;를 포함한다. 이에 의해, 기 표면처리로 인해 생성된 산화막과 임플란트 표면에 잔존하는 오염물을 제거하고 안정된 결합력을 갖는 산화막을 형성함과 동시에 산에 노출된 임플란트 표면에 잔존하는 산 성분을 중화하고 제거함으로써 임플란트 시술시 오염물질의 유출로 인한 염증반응을 최소화 하여 수술 성공률을 높일 수 있는 표면처리를 할 수 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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