化学液体注射装置
- 专利权人:
- 株式会社根本杏林堂
- 发明人:
- 根本茂,齐藤尚,村松茂,内园裕文
- 申请号：
- CN201080021531.9
- 公开号：
- CN102427838A
- 申请日:
- 2010.03.17
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 摘要：
- 一种化学液体注射装置，具有注射器适配器(300)和注射机头(110)，注射器适配器(300)可拆卸地容纳形成在注射器(200C，200P)的圆筒(210)的后端处的圆筒凸缘，注射器(200C，200P)安装在注射机头(110)上，注射器适配器(300)插入它们之间。注射机头(110)具有向上开口的适配器容纳装置(114a)，注射器适配器(300)可互换地安装在适配器容纳装置(114a)上。注射器适配器(300)具有一对臂部，该对臂部位于被容纳的圆筒凸缘的左、右两侧并被支撑以能够弹性移位，以便能够改变所述臂部之间的间距。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
