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Fabrication Method of Plasma Polymerized Polyethylene Glycol Thin Film
专利权人:
发明人:
최창록,문대원,이태걸
申请号:
KR1020090095267
公开号:
KR1011108140000B1
申请日:
2009.10.07
申请国别(地区):
KR
年份:
2012
代理人:
摘要:
PURPOSE: A manufacturing method of a plasma polymerized polyethylene glycol thin film is provided to suppress the non-specific absorption of cells and proteins. CONSTITUTION: A manufacturing method of a plasma polymerized polyethylene glycol thin film is constituted as follows. A plasma polymerized polyethylene glycol thin film is formed on a substrate through plasma enhanced chemical vapor deposition of polyethylene glycol oligomer. The polyethylene glycol oligomer has an average mole molecular weight of 100-300. The plasma enhanced chemical vapor deposition is performed within a plasma enhanced chemical vapor deposition device.본 발명은 단백질의 비특이적 흡착이나 세포의 흡착을 억제하고 독성이 없으며, 세포 배양액 또는 신체 내에서 안정한 생체 적합성 박막의 제조방법에 관한 것으로, 상세하게는 본 발명에 따른 제조방법은 폴리에틸렌글리콜(PEG; PolyEthylene Glycol) 올리고머를 전구체로, 상기 폴리에틸렌글리콜 올리고머를 플라즈마 화학 기상 증착(PECVD; Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)하여, 기재에 플라즈마 중합된 폴리에틸렌글리콜 박막을 형성하는 특징이 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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