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Reinigungspad
专利权人:
M. Heyer GmbH Applikator- Systeme.
发明人:
Petra Knöller
申请号:
DE102017106652
公开号:
DE102017106652A1
申请日:
2017.03.28
申请国别(地区):
DE
年份:
2018
代理人:
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Pad mit einem Restfeuchtegehalt von unter 5 % mit mindestens einem hydrophilen, wasserunlöslichen Substrat mit einer ersten und einer zweiten Seite, wobei die erste und die zweite Seite eine unterschiedliche Rauigkeit aufweisen, mindestens einem Alkylbenzoat, mindestens einem Anion-Tensid und mindestens einem Co-Tensid, wobei das Pad weiterhin ein Polymer oder ein Copolymer der Acryl- oder Methacryl-Säure oder deren Salzen als Filmbildner umfasst und das Substrat ein Vliesstoff ist, wobei die Fasern des Vliesstoffs randomisiert angeordnet sind.The present invention relates to a pad to a residual moisture content of less than 5% with at least one hydrophilic, water-insoluble substrate with a first and a second side, wherein the first and second side have a different roughness, at least one alkyl benzoate, at least one anion - surfactant and at least a co - surfactant, wherein the pad, in addition, a polymer or a copolymer of acrylic - or -) of methacrylic acid or its salts as film formers, and the substrate is a nonwoven fabric, whereby the fibers of the nonwoven fabric are arranged at random.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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