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CLEANING SOLUTION AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
专利权人:
가부시키가이샤 에피오스
发明人:
시치타니 야스오
申请号:
KR1020167006360
公开号:
KR1020160042093A
申请日:
2013.08.30
申请国别(地区):
KR
年份:
2016
代理人:
摘要:
In the present invention, it is an object of the present invention to provide cleansing water which has high stability and has an action of producing high concentration of hypochlorous acid at the time of cleansing to sterilize and clean bacteria and viruses, and as a means for solving this problem, The aqueous solution containing hypochlorous acid and hypochlorous acid ions produced by the decomposition method has an effective residual chlorine concentration of 500 ppm to 2000 ppm and a hydrogen ion concentration index adjusted to pH 8.5 to pH 9.5, And a cleaning water exhibiting high sterilization and cleaning action at the time of use was prepared.본 발명에 있어서는 안정성이 높고, 세정 시에 고농도의 하이포아염소산을 산생하여 세균이나 바이러스를 살균 및 세정하는 작용을 갖는 세정수를 제공하는 것을 과제로 하고, 이 과제를 해결하는 수단으로서 무격막 전기분해법에 의해 산생되는 하이포아염소산 및 하이포아염소산 이온을 포함하는 수용액으로서, 그 유효 잔류 염소 농도가 500ppm으로부터 2000ppm이고, 또한 수소 이온 농도 지수가 pH 8.5~pH 9.5로 조정되어 있는 것에 의해 장기적으로 안정성을 유지하면서 사용 시에 있어서 높은 살균 및 세정 작용을 나타내는 세정수를 작성했다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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