您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

STERILIZATION DEVICE AND WATER SECTION APPARATUS
专利权人:
LIXIL CORP;株式会社LIXIL
发明人:
ISHIKAWA TAKAHISA,石川 隆久,YAMAMOTO TAKAYUKI,山本 剛之,NAKAJIMA YASUHITO,中島 泰仁,SATO KAZUHIRO,佐藤 一博,MAENAMI HIROTERU,前浪 洋輝,TOYAMA KIMIYA,外山 公也,OTA HAJIME,太田 肇,HONDA DAIKI,本多 大輝
申请号:
JP2018025023
公开号:
JP2019136443A
申请日:
2018.02.15
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
To provide a sterilization device capable of effectively inhibiting various microorganism dirt of a water section apparatus.SOLUTION: A sterilization device 1 is a sterilization device 1 of a water section apparatus 2, has a heating part 30 for heating a temperature of a sterilization water 6 at 40°C or more, and a supply part 20 for supplying and contacting the sterilized water 6 heated at 40°C or higher to the water section apparatus 2 to sterilize the water section apparatus 2. When the sterilized water 6 is hydrogen peroxide, it is preferable that concentration of the hydrogen peroxide in the sterilized water 6 is 0.1 mass% or more. When the sterilized water 6 is hypochlorous acid, it is preferable that concentration of the hypochlorous acid in the sterilized water 6 is 1 mg/L or more.SELECTED DRAWING: Figure 1【課題】水回り機器の多様な微生物汚れを効果的に抑制できる除菌装置を提供すること。【解決手段】除菌装置1は、水回り機器2の除菌装置1であって、除菌水6の温度を40℃以上に加温する加温部30と、40℃以上に加温された除菌水6を水回り機器2に供給して接触させることで水回り機器2を除菌する供給部20と、を備える。除菌水6が過酸化水素水である場合には、除菌水6中の過酸化水素の濃度は、0.1質量%以上であることが好ましい。除菌水6が次亜塩素酸水である場合には、除菌水6中の次亜塩素酸の濃度は、1mg/L以上であることが好ましい。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充