一种立式抗污的紫外线消毒机
- 专利权人:
- 刘秀敏
- 发明人:
- 刘秀敏
- 申请号：
- CN201620819740.2
- 公开号：
- CN206183686U
- 申请日:
- 2016.07.28
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本实用新型公开了一种立式抗污的紫外线消毒机：其结构包括第一固定螺栓、第二固定螺栓、上端盖、主防尘抗污装置、侧边防尘抗污装置、紫外线消毒主机、抗污层、紫外线发生装置固定装置、上底座、散热排气口装置、查看小口、下底座、转接口、出水管、显示器、中间过渡夹层装置，所述第一固定螺栓、第二固定螺栓和上端盖固定连接，所述主防尘抗污装置和上底座固定连接，所述中间过渡夹层装置和上底座活动连接，有两个以上的紫外线发生器，能够较完全的消毒，也有抗污层装置，能够在消毒的同时，也在保护自身的干净整洁。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
