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水素ガス供給装置及び水素ガス供給方法
专利权人:
OFFICE T CO LTD
发明人:
TSUJI NAOKI,辻 直樹
申请号:
JP2016150276
公开号:
JP2018015438A
申请日:
2016.07.29
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hydrogen gas supply apparatus and hydrogen gas supply method capable of providing a treatment method quickly acquiring inflammation sedative effects for chronic painful disease of the locomotorium including bones/joints and chronic skin disease and having no side effect.SOLUTION: A hydrogen gas supply apparatus according to the present invention includes: a hydrogen gas storage part for storing hydrogen gas with prescribed purity a hydrogen gas supply part for supplying the hydrogen gas to the inside of a living body or a drip bag a hydrogen gas supply mechanism for supplying the hydrogen gas stored in the hydrogen gas storage part to the hydrogen gas supply part and a control part controlling at least any of the hydrogen gas storage part, the hydrogen gas supply part and the hydrogen gas supply mechanism to regulate at least any of a concentration, a flow rate, a pressure, a supply amount and a supply portion of the hydrogen gas to be supplied to the inside of the living body or the drip bag.SELECTED DRAWING: Figure 1COPYRIGHT: (C)2018,JPO&INPIT【課題】骨/関節を含む運動器の慢性疼痛性疾患、及び、慢性皮膚疾患に対する、速やかに炎症鎮静効果が得られ、かつ、副作用の存在しない治療法を提供することが可能な、水素ガス供給装置及び水素ガス供給方法を提供すること。【解決手段】本発明に係る水素ガス供給装置は、所定純度の水素ガスを貯蔵する水素ガス貯蔵部と、生体又は点滴バッグの内部に対して前記水素ガスを供給する水素ガス供給部と、前記水素ガス貯蔵部に貯蔵されている前記水素ガスを、前記水素ガス供給部へと供給する水素ガス供給機構と、前記水素ガス貯蔵部、前記水素ガス供給部、又は、前記水素ガス供給機構の少なくとも何れかを制御することで、前記生体又は点滴バッグの内部に供給される前記水素ガスの濃度、流量、圧力、供給量又は供給部位の少なくとも何れかを調整する制御部と、を備える。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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