Systems, methods and apparatus are provided for moisture measurement. In some embodiments, a reflectance measurement is corrected based on a soil characteristic map. In other embodiments, a first reflectance measurement at a first depth is corrected based on a second reflectance measurement at a second depth.Linvention concerne des systèmes, des procédés et un appareil qui permettent de mesurer lhumidité. Dans certains modes de réalisation, une mesure de facteur de réflexion est corrigée sur la base dune carte de caractéristiques du sol. Dans dautres modes de réalisation, une première mesure du facteur de réflexion à une première profondeur est corrigée sur la base dune seconde mesure du facteur de réflexion à une seconde profondeur.
