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荷電粒子ビーム照射システム及び荷電粒子ビーム出射方法
专利权人:
株式会社日立製作所
发明人:
藤巻 寿隆,遠竹 聡
申请号:
JP2005258651
公开号:
JP5245193B2
申请日:
2005.09.07
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a desired dose distribution in a depth direction in various conditions of irradiation with a smaller number of beam energy regulating means (RMW).SOLUTION: A charged particle beam irradiation system has an accelerator 4 for accelerating a charged particle beam and a beam energy regulator 40 which is rotated to keep thickness in an axial direction variable in a rotational direction and is equipped with a beam irradiator 16 which irradiates an object to be irradiated with the charged particle beam that has passed the beam energy regulator 40 after being emitted from the accelerator 4 and a controller 90 which controls the emission amount of the charged particle beam emitted from the accelerator 4 during the emission of it on the basis of the rotation angle of the beam energy regulator 40.COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT【課題】より少ない数のビームエネルギー調整手段(RMW)で、種々の照射条件において深部方向における所望の線量分布を得ることを課題とする。【解決手段】荷電粒子ビームを加速する加速装置4と、回転され、軸方向の厚みが回転方向において異なっているビームエネルギー調整装置40を有し、加速装置4から出射されてビームエネルギー調整装置40を通過した荷電粒子ビームを照射対象に照射するビーム照射装置16と、ビームエネルギー調整装置40の回転角度に基づいて、荷電粒子ビームを出射している間で加速装置4から出射する荷電粒子ビームの出射量を制御する制御装置90を備えることによって、上記課題を解決することができる。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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